二手 SCL Osmoseur #9363016 待售

SCL Osmoseur光刻設備是為高端光刻應用而設計的頂級光刻系統。該裝置采用真空控制、光敏塗層的鍍鉻面膜，將各種尺寸和形狀的圖案傳遞到半導體基板的裸露表面。光刻過程從鍍鉻面罩暴露於特定波長的光開始，在這種情況下，它是由汞蒸氣燈過濾出的紫外線。這照亮了鍍鉻面膜上的圖案，然後紫外線有選擇地將光敏塗層暴露在基板表面上，將圖案轉移到基板上。機器使用堅固的閉環控制，以確保基板持有者始終保持一致的高度，並且即使在很小的尺度上也能提供精確的面罩和基板對齊。這樣可以精確控制曝光時間和功率水平，並補償溫度和濕度等環境因素。刀具的蝕刻模組將光刻膠層移除,該模組使用化學物質的精選組合,根據需要在不同的區域內將光刻膠曝光和移除。這樣可以確保即使是最復雜的設計也能得到忠實的再現。該資產高度自動化,並具有一個具有多種編程功能的用戶友好界面。用戶可以為不同的圖樣設置參數，並選擇所需的光刻膠類型、基材類型和蝕刻速率。該模型還設計為為員工提供無與倫比的安全，具有陽極氧化耐火材料，封閉式腔室，連帽操作。這樣可以確保使用者不接觸鉻、汞和其他有害毒素。總體而言，Osmoseur Photoresist設備是一種先進而可靠的光刻系統，為員工提供可靠而精確的圖樣和高水平的安全性。它是任何高端、精密光刻應用的完美解決方案。