二手 SEC BEP-2708 #9398877 待售

SEC BEP-2708是三星電子有限公司開發的光刻設備。它是一種用於顯微光刻應用的高性能、低成本的可照相材料。該系統由幾個組件組成，所有這些組件對於成功生產復雜的微電子設備，特別是具有超細特性的微電子設備至關重要。BEP-2708的關鍵組成部分包括：光敏薄膜、基板、曝光工具、顯影硬化裝置。光致抗蝕劑薄膜是一種對光敏感的聚合物材料。它通過自旋塗層應用於基板上。膠片迅速蒸發，留下了想要的圖像。當光線照射到膠片上，將圖樣投射到基板上時，圖像被精確地保留。與傳統的SEC BEP-2708相比，SEC提供了更好的圖樣厚度，從而提供了更好的蝕刻和表面平面性能。基材是一種材料，在其上施加了光致抗蝕劑薄膜。它可以是兩種材料之一：SILK或氮化物。SILK是由化學蝕刻層組成的矽酸鹽基質，提供CMP均勻性和可變表面保護。氮化物是氧化矽堿基層，然後用氮化矽膜覆蓋。這種基板提供了更好的蝕刻特性和改進的平面。曝光工具用於光刻機中，因為它對於精確的想象至關重要。它利用強烈的光束將圖像投射到光刻膠上。通常,BEP-2708使用深紫外線、X射線或電子束工具曝光。該工具還利用其先進的模內增強技術，為其產品提供更好的圖像清晰度和更高的分辨率。光刻膠資產曝光後，由開發硬化模式接手。這包括幹濕開發部分。濕法開發涉及使用化學溶液去除未暴露的光致抗蝕劑。為了幹燥發展，氧氣等離子體或臭氧系統被用來治愈硬化的圖像。然後，硬化的光刻膠被另一層保護層覆蓋，通常是SiN基板膜，這有助於提高蝕刻性能和表面平面度。SEC BEP-2708為需要精確圖像的微光刻應用提供了一個高性能、低成本的解決方案。憑借其先進的部件及其精細集成的工藝，設備產生了復雜的圖樣，厚度和均勻性超過了替代光刻膠系統所提供的。因此，對於那些尋求生產高質量、高精度微電子器件的人來說，它是一個理想的光刻系統。