二手 SEMES EKPS-01 #9352140 待售

SEMES EKPS-01是一種化學放大正光刻設備，用於制造集成電路和其他相關微電子器件。光致抗蝕劑一般由光敏聚合物薄膜組成，該薄膜被塗覆在基板上，使用光源圖樣，然後發展成圖樣圖像。EKPS-01是一種經濟的光刻膠系統，它提供了更高的溶液穩定性，更好的附著力和分辨率，以及比類似系統更好的輪廓。該機組的主要部件是光刻膠的底層和中間層、屏障層以及光刻膠的頂表層。底層由聚酰胺酰亞胺聚合物促進與基板的粘附組成，而光刻膠的中間層和頂層則由交聯聚酰亞胺聚合物組成，該聚合物具有優異的分辨率和耐蝕刻性能。屏障由聚酰亞胺組成，以阻斷氧氣/水分入侵。這種結構有助於提高附著力，並允許在設備制造過程中更高分辨率的圖樣。這種光刻機的主要優點是其出色的分辨率。SEMES EKPS-01能夠產生小至0.1 µm的特性，這對於高端電路應用很重要。此外,該工具還提高了穩定性,最大限度地減少了制造過程中的浪費,並減少了周期時間,從而節省了時間。EKPS-01的粘合特性有助於最大程度地減少圖樣加工過程中的裂紋或剝落。SEMES EKPS-01資產提供化學放大（CA）過程,在保持高分辨率的同時提高曝光過程的靈敏度和速度。CA過程通過水溶液進行，涉及兩個成分：酸發生器和穩定劑。酸發生器在光活化階段提高靈敏度，穩定劑防止過早發育。此過程是有益的,因為它顯著縮短了周期時間,同時提高了圖像質量。由於其出色的分辨率、更好的穩定性、出色的附著力和化學放大工藝，EKPS-01光刻膠模型是電路制造的理想選擇。其先進的功能可提高分辨率和耐蝕刻性能,在廣泛的應用條件下提供卓越的性能。