二手 SEMES Semhawk #9302263 待售

SEMES Semhawk是一款下一代光敏設備，設計用於制造復雜的高分辨率集成電路。該系統利用更高的能量束，稱為極紫外線，擅長產生尖銳、高對比度的圖像。這是由於光束具有高度的高能性質，這使得它能夠分解出傳統的光致抗蝕劑單元無法抵抗的分子。由於速度和生產力的結合，現在可以生產復雜的微電子，這在以前是不可行的。機器的核心是帶有冷場發射（CFE）和眼鏡透鏡（SLMs）的電子束槍，能夠產生和操縱用於光刻的電磁輻射。紫外線激光用於控制和對準CFE。然後，CFE將紫外光束引導和調制到抗蝕劑塗層表面上。這種抗蝕劑被紫外線選擇性熔化和/或硬化，在表面上產生圖像。Semhawk高度集成,包括快速熱處理單元等功能,通過在處理過程中快速加熱和冷卻抗蝕劑來保護光刻膠免受損壞。該工具還配備了真空室、電極和檢測器，使其能夠產生精確形成光敏層圖像所需的強烈真空。該資產的設計是耐用和高效的，並且可以通過包括耐磨和耐熱部件來承受惡劣的紫外線和工藝環境的影響。由於其高度密集的元件、接線和耐熱性，它還能夠產生質量和精度都很高的圖像。該模型可產生小至180納米的特征尺寸，並支持最多8層的曝光和晶圓堆積。除了堅固的特性外，該設備還包括自動模式識別模塊等功能，可幫助用戶優化圖像，降低模式缺陷的風險。該系統還利用內置的自動曝光和聚焦控制來提高精度。憑借其廣泛的特性和優勢,此光刻裝置非常適合那些正在尋找能夠產生高對比度、表面清潔和圖案缺陷極小的圖像的工具的客戶。