二手 SEMES STH5320H #9298975 待售

SEMES STH5320H是用於制造微電子器件的最先進的光刻設備。該系統包括一個光源，用於將光刻膠薄膜的暴露區域暴露於能源，以及用於制造晶片級、旋轉器、氣體歧管和排氣裝置等各種部件的其他設備。該機器能夠處理各種光刻膠，包括幹性和液性薄膜，具有各種厚度和表面處理。這種精密的工具有助於確保只有光刻膠所需的部分被曝光和開發，從而產生更精確和精確的微電子元件。資產的主要成分是光源、能源和晶圓級。光源通常是一個紫外線光源，光刻膠膜暴露在其上。這種光源可以在強度上變化，以確保根據使用的光刻膠類型和薄膜的厚度實現適當的曝光。能源一般為真空源，真空範圍為0.5-10 Torr。一個強真空是必要的，以除去空氣分子從表面的光致抗蝕劑，允許膜的暴露部分發展。與能源一起，模型還包括一個氣體歧管，為開發過程提供可控水平的氣體。晶片級允許光刻晶片在加工周期中精確移動。這些階段使晶片能夠在光源上移動並提供光滑和均勻的曝光。這些階段配備了可重復、高精度的位置控制，允許精確蝕刻和曝光結果。一旦達到所需的曝光度，就使用旋轉器將顯影的光致抗蝕劑晶片塗覆，並將抗蝕劑均勻地分散到晶片上。該設備還包括一個內置的可調排氣系統，以確保適當的空氣流通，並清除光刻膠加工周期內產生的任何危險煙霧或蒸氣。該單元還有助於保持光刻膠加工區的恒溫，保持光刻膠開發的最佳條件。綜上所述，STH5320H是一種專為制造微電子器件而設計的強大的光刻機。該工具能夠精確精確地曝光各種光刻膠薄膜，具有各種厚度和表面處理。資產包括光源、能源、氣體歧管、晶片級、旋轉器和排氣模型，所有設計都是為了確保光刻膠的適當開發和光刻膠在晶片上的統一應用。此外，設備還可根據最佳空氣流通和溫度進行調整，提供安全規範的工作環境。