二手 SEMIGROUP PP-1000 #9124952 待售

製造商
SEMIGROUP
模型
PP-1000
ID: 9124952
RIE system Microprocessor control: 12" parallel plate RIE both lower and upper electrodes are temperature controlled Lower electrode: up to 450 Degrees C Upper electrode contains a shower head for gas delivery Power supply: 208 V, 30 A.
SEMIGROUP PP-1000是一種負光刻設備,主要用於印刷電路板(PCB)的生產和其他微電子應用。它由一種光致抗蝕劑組成,該光致抗蝕劑由施加在基板上的光敏膜組成。當暴露在紫外線下,光致抗蝕劑會變硬,不溶於開發溶劑。圖像開發完成後,光致抗蝕劑可以使用溶劑從基板上除去,使金屬電路暴露在外。PP-1000是一個負敏化系統,意味著底物的暴露區域在光線照射時變硬,而未暴露的區域反應性較小,可溶於顯影溶劑。這個單元包括一個光刻膠,一個活化劑,在某些情況下,一個曝光後烘烤。當暴露在純紫外線下,光致抗蝕劑被硬化,不溶於正在發展的化學物質。圖像完全顯影後,光刻膠可以從基板上剝離。這種工藝被用於許多PCB生產工藝中,用於形成焊膜、導體側面幹膜和鍍層通孔。用於SEMIGROUP PP-1000的光刻機需要與將打印在基板上的金屬層兼容。光致抗蝕劑應具有促進金屬層與基板粘附的能力。另一個要考慮的重要因素是光刻膠的保質期,應大於三個月,以確保光刻膠在處理過程中仍然完好無損。PP-1000使用的活化劑是常規的浸幹法。這種活化劑可以在光照前應用於基板,以活化光敏材料。在某些情況下,還可能需要經過曝光後烘烤才能使光刻膠完全硬化。這種烘烤可以根據要求在一定的溫度和時間下進行。最後,SEMIGROUP PP-1000工具是主要用於生產多氯聯苯和其他微電子應用的負光抗蝕劑資產。它由一種光致抗蝕劑、活化劑以及在某些情況下的曝光後烘烤組成。當暴露在紫外線下,光致抗蝕劑會變硬,不溶於開發溶劑。圖像開發完成後,光致抗蝕劑可以使用溶劑從基板上除去,使金屬電路暴露在外。
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