二手 SEMITOOL 430S-5-1-ML-WP #9178866 待售

SEMITOOL 430S-5-1-ML-WP Photoresist Equipment是一個全自動和集成的化學和處理單元,用於應用光刻膠材料。每個會話最多可處理5個115mm晶圓。該機配備了一系列獨立的、可編程間的工藝室，包括外部化學供應櫃、用戶控制的可編程大氣控制、射頻發生器、PR噴塗站和快速熱固化系統，所有這些都安裝在一起，以創建一個功能齊全的處理單元。光致抗蝕劑過程從預處理室開始，預處理室的設置是為了預處理晶片的表面。這就需要清洗晶片，以清除在使用抗蝕劑材料之前可能存在的任何顆粒、氧化物和/或汙染物。預處理室提供化學控制和各種清潔溶液和蝕刻劑的精確輸送，以實現光刻膠的最大附著力，這取決於基材類型。然後將光致抗蝕劑噴灑到PR噴塗站的晶片上。噴塗站設有電動精密噴霧器、變頻射頻發生器和可與外部加熱器耦合的加熱空氣幹燥室，以更好地控制抗蝕膜的幹燥時間。射頻發生器用於控制光刻膠的沈積以達到均勻性。一旦光致抗蝕劑被應用和幹燥，晶片被轉移到快速熱固化（RTC）單元。這個單元配備了一個集成的加熱器單元和一個帶有可調定時程序的單室，用於精確控制固化過程。RTC機器的工作原理是精確調節每個應用程序晶圓的溫度。固化過程完成後，晶片被移入後固化室，在需要時可提供額外的加熱或幹燥循環，以增強膜的完整性。430S-5-1-ML-WP Photoresist Tool具有直觀和用戶友好的體系結構,對光刻膠工藝的每個步驟都有明確的分步說明。獨立工藝室的集成和清潔化學品的精確輸送、抗薄膜、固化時間，使其成為高端光刻應用的絕佳選擇。