二手 SEMITOOL 460F #151780 待售

SEMITOOL 460F
製造商
SEMITOOL
模型
460F
ID: 151780
晶圓大小: Up to 5"
Spin rinse dryer, up to 5".
SEMITOOL 460F Photoresist Equipment是一個全自動的前側化學濕式站,設計用於在半導體元件的生產過程中處理半導體晶片。該系統旨在提供優異的化學均勻性、柔韌性和光刻塗層工藝精度。460F具有集成的晶片裝載機和晶片卸載機,能夠處理各種晶片基板,包括標準配置和裸背配置的4英寸和6英寸晶片。晶片的裝卸是用機械臂完成的,以確保最高質量的結果。設備可配置為每個周期最多處理8個晶片,加載時間可從20分鐘調整為6小時。該機采用精密的化學計量控制,確保塗層厚度準確均勻。該工具配備了先進的化學分配控制器,用於監測和記錄每種光刻膠和化學分配的分配速率。SEMITOOL 460F資產能夠創建統一的分配和塗層配置文件,可以根據預定的配方參數進行編程。460F型號還配備了自我診斷測試功能和警報日誌,以便於設備的監控和維護以及故障檢測。此外,該系統還包括一個帶有冷卻塔的溫度控制單元,以保持晶圓工藝室內的溫度穩定性,並允許光刻膠具有更高的分辨率圖像。SEMITOOL 460F Photoresist Machine是半導體實驗室和研究設施的理想選擇,它們需要可靠、高效的方法來處理晶圓。該工具旨在提供卓越的化學均勻性和精確的光阻塗層,同時仍可方便維護和有效診斷。460F資產是研究實驗室和生產設施的理想選擇,這些實驗室和生產設施需要高質量的光刻膠處理解決方案。
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