二手 SEMITOOL ECP LT210 CU #9093697 待售
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已售出
ID: 9093697
晶圓大小: 8"
優質的: 1999
CMP - Cu plating system, 8"
(10) Chambers
Module: CMP/CU
SMIF interface: (2) Asyst indexers
Process application: copper plating
Copper process: yes
Batch/single wafer: single wafer
Electrochemical copper deposition in diluted CuSO4/H2SO4 solution with organic additives
Backside cleaning and bevel etching with diluted PIR-Solution
(6) Plating chambers
(4) Bevel etch capsules
External chemical Conc. Control by support tool
Capable of Pulse-Reverse-Plating and DC-Plating and Hot-Entry
ECD Chamber Retrofit: Wet contact rings and finger clean for ext. ring lifetime
Photometric insitu analysis: Cu and H2SO4
Robot Beam
Capsule Retrofit: fingerless rotors
Capsule Retrofit: one piece delivery manifold
Modified bowl return-flow for bubble suppression
M&W Systems chiller
Dynatronix Power Supply Upgrade
Capsules: adjustable flowmeters for chemical supply
UPS-Retrofit: Data Saving in case of power loss)
Plating rotors with extended wafer supporting posts
Currently crated
CE marked
1999 vintage.
SEMITOOL ECP LT210 CU是一種光刻設備，用於半導體工業，以高精度和可重復性生產精密曲面和圖樣。它由一個最多有四個步進級的雙光束室組成，能夠在基板上提供高度精確的圖像。該系統能夠提供多種光刻技術，如光掩模、投影掩模和薄膜。它還具有控制參數的控制墊,例如曝光時間、舞臺移位和放大倍數等。該單元采用直接光源、投影光學和探測器的組合來精確對準基板，在各級進行精確的光刻。步進級可以針對各種基板尺寸和形狀進行編程，從而在創建的圖樣中實現高度均勻性。此外，該機采用旋轉塗料均勻塗覆光刻層，提高圖樣精度。該工具可處理多層光刻膠並達到高達10nm的分辨率，可調旋轉速度高達5000 rpm。資產與多種基材兼容，包括矽、玻璃、金屬等。它還具有一個高靈敏度的數字CCD檢測器，以有效地檢查模式的發展。該型號的其他功能包括可選的環境控制室、用於增強圖像對比度的散熱燈、靜電場電壓監視器等多種安全保護功能以及光鉗機構。ECP LT210 CU是一種高效可靠的光刻設備，用於制作高精度的表面圖樣和設計。憑借其通用的功能集和性能功能,它在準確性、成本效益和速度之間實現了完美的平衡,使其成為各種工業應用的理想解決方案。
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