二手 SEMITOOL Paragon #293592805 待售
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單擊可縮放
ID: 293592805
晶圓大小: 12"
ECD Plating system, 12"
(2) FOUP WIP
Anneal chamber
ULVAC Metrology unit
(2) CFD Chambers with in-situ rinse
RTA Probe
Pump
Bleed bath recovery
(2) Capsule chambers with cooling coils
Heated N2
Sample port
Tank with AMCS connections
Power supply: 480 VAC, 125 A, 50/60 Hz.
SEMITOOL Paragon是由SEMITOOL, Inc.開發的一種用於在半導體中創建極精細特征的「光刻」設備。該系統采用高精度遮罩對準器,能夠成像模式到半導體基板上,精確度非常高。該過程從包含需要轉移到基板上的圖樣的光掩碼開始。然後,在基板上方放置一塊專門的光掩模,並使用透過掩模發光的光來創建所需的圖案。Paragon光致抗蝕劑單元由兩個主要設備組成:相片對齊器和顯影劑。Photo Aligner由一個對齊階段、一個頂架和一個照明器組成。對齊階段控制著光掩模在基板上對齊的精度,而頂部支架提供了光掩模可以移動的光滑表面。該照明器利用光致抗蝕劑兼容光源,包括可見光源、紫外線光源和紅外光源,以創造極好的特征。顯影劑設計用於去除和固定光敏材料。光致抗蝕劑材料暴露在所需圖案後,必須從表面進行清洗,需要塗抹一層新的光致抗蝕劑。為此,開發人員使用濕式工作臺,使用化學浴去除和固定光刻膠。SEMITOOL Paragon光電抗蝕器的設計是為了能夠精確和可重復地創建小尺寸和特征尺寸的半導體圖樣。該工具具有高吞吐量和特征大小控制,可提供高達45nm的精度。資產的掩模對齊器允許晶圓上的光掩模極精確對齊,從而進一步提高精度。此外,該模型還允許使用各種光刻膠,以確保實現所需的特征尺寸。
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