二手 SEMITOOL Raider #9018339 待售
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ID: 9018339
晶圓大小: 6"
優質的: 2004
Wafer backside etcher, 6"
Configuration:
Process: backside and bevel etch/clean
Substrate: 6" Si with flats
Voltage: 380 V, 3 phase, 50/60 Hz, 5 wire
CE comp: yes
S2 comp: yes
Automation:
Type: 2 open cassette
Robot: STI single linear
End effector: edge grip
Pre-aligner: no
Cabinet:
Style: 2 chamber with WIP version 2
Material: PVC-C
Exhaust: bottom
Facilities: bottom
Fire supp: eng req (no external comp)
ULPA filters: standard (to cover both wafer handling area and chambers)
Process module:
CPC1/CPC2 backside layer etch
Chamber: 8" capsule
Rotor: 6" capsule I
DRVHD: capsule I
Auto: Raider L/R
MFC on N2 and IPA (top/bottom)
IPA vapor dry
Delivery systems:
Tank 1
Size: 20 L
Style: bottom draw
H/C: coils
Circ: recirc/reclaim
Filter: 5" 0.1 um
Level sensor: 3 floats
Pump: Levitronix BP-3 48 V
Supply: bulk fill
Delivery: CPC 1 & 2
Chem: dHF
Chemical trunk line delivered to bottom of CPC1/CPC2
SMTL transducer for all liquids
Drains: IPA, IW, HF
Options: (2) Affinity heater/chillers
Engineering required:
Cabinet
Elec pods
Automation
Process component integration
Electrical
Software
Plumbing layout
Gas flow monitoring and data logging
Robot interface
Manuals
Chiller/heater, 50 Hz, European
Chiller M75, 50 Hz, PD-2
2004 vintage.
SEMITOOL Raider光刻設備是一種自動化的高通量光刻工具,用於在半導體器件上繪制特征圖樣。該系統配備了精確的機器人技術,可以準確地將半導體晶片從一個加工站到另一個加工站。入侵者的特點是激光幹涉儀用於精確的晶圓定位,負載鎖定裝置用於精確的溫度控制和環境清潔,以及0.5微米塗層/顯影劑用於精確的保形處理。SEMITOOL Raider的光刻塗層站設計為在晶片上塗上一層薄薄的抗蝕層,為光刻做準備。該機提供高達6晶圓/分鐘的抗蝕塗層速率,精度和分辨率低至0.1微米。塗層晶片隨後被移動到光掩模工作站,在該工作站,紅外線或近紫外線激光照亮光掩模上所需的圖樣。這允許使用相同的光掩碼來照明非常小的圖案或完整的電路設計。Raider的掃描儀工作站允許為每個晶片編程特定的掃描模式。這樣可以確保將單個特征或完整的電路設計精確地陣列化到晶圓上。然後使用SEMITOOL Raider的光致抗蝕劑顯影站將抗蝕劑圖樣轉移到晶片上。該站還配備了先進的溫濕度控制,確保過程一致。Raider旨在提高光刻工藝的生產率,同時保持可重復的結果。由於其嚴格的過程控制和可重復性,用戶可以期待可靠、一致和經濟高效的結果。該工具還與工藝化學體系高度兼容,易於與各種化學品和材料集成。所有這些功能使SEMITOOL Raider成為尋找可靠光刻資產來處理其半導體器件的用戶的理想選擇。
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