二手 SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WP #9209043 待售
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單擊可縮放
ID: 9209043
晶圓大小: 6"
優質的: 2008
Spin rinse dryer (SRD), 6"
Includes 6" x 6" substrates rotor
Static eliminators
Resistivity monitor
Controller: PSC-101
2008 vintage.
SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WP Photoresist Equipment是一種高端的基於對流的光刻系統,專為精密的微光刻工藝而設計。它用於光刻塗層和處理小基板,如用於半導體和微電子應用的高分辨率光罩。S27-S-3-1-ML-WP光刻裝置有一個三軸控制,它提供精確和可重復操作,以及一個寬敞的基板檢修室。配備先進、易用、人性化的軟件機,並配有方便的不銹鋼儲物櫃。該工具提供高分子基板兼容性,其中包括液體、幹性和可回收性抗蝕劑。這種多功能性允許各種光刻工藝,包括自旋塗層、槽塗層和棉簽工藝,這些都得到了全面配方編輯和自動可編程重復性的支持。此外,SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WP資產允許最大限度的基板溫度控制,提供光敏材料在整個基板上最均勻的分布。S27-S-3-1-ML-WP模型旨在實現工藝參數的最佳精度和可重復性。先進的軟件和溫度控制允許精確曝光和開發時間。此外,該設備還包括先進的流量控制系統,可實現精確和可重復的旋轉速度和壓力。SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WP Photoresist Unit旨在滿足當今微電子和半導體行業不斷變化的工藝需求,為用戶提供可靠、高效的性能。它具有全面集成的工藝和故障監控,以及高質量的陽極氧化鋁結構。光刻機S27-S-3-1-ML-WP空間高效設計,是空間有限的生產和實驗室環境的理想解決方案。
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