二手 SEMITOOL Spin Rinse Dryer (SRD) #293732211 待售

ID: 293732211
Holder, 6"-8".
SEMITOOL自旋沖洗烘幹機(SRD)是半導體制造過程中常用的重要設備,特別是光敏設備。光阻在集成電路和其他半導體器件的生產中起著至關重要的作用。它充當應用於半導體晶片表面的光敏材料,允許在光刻過程中圖樣從光掩模選擇性轉移到晶片上。光刻系統中SRD的主要功能是在光刻過程後從晶片表面除去殘留的光刻膠和其他汙染物。這一清潔步驟對於確保後續制造步驟的質量和完整性至關重要。SRD通過使用自旋、沖洗和幹燥循環的組合來實現這一目標,從而有效地從晶片表面去除任何多余的光刻膠和粒子。自旋循環包括以高速旋轉晶片以產生離心力,幫助脫落和去除殘留的光致抗蝕劑。這種旋轉動作對於在整個晶片表面實現均勻清潔至關重要。沖洗循環遵循自旋循環,涉及應用去離子水或其他清潔溶液進一步沖洗掉任何殘留的汙染物。使用高純度沖洗水對於防止晶片表面再汙染至關重要。沖洗循環完成後,晶片進行幹燥循環,其中使用加熱氣體的組合,如氮氣或壓縮空氣,從晶片表面蒸發沖洗水。有效的幹燥對於防止水斑和確保晶片在進行下一個加工步驟之前清潔幹燥至關重要。SEMITOOL SRD配備了先進的控制系統,允許對旋轉速度、沖洗時間、幹燥溫度等工藝參數進行精確調整,以優化清潔性能,確保結果一致。此外,該裝置的設計目的是盡量減少晶圓的處理,減少清洗過程中受到汙染的風險。除清潔能力外,SEMITOOL SRD還可能提供用於自動化學品輸送的化學分配系統、用於跟蹤整個清潔過程中單個晶片的晶圓映射能力以及用於實時過程監測和控制的高級監控系統等功能。總體而言,SEMITOOL Spin Rinse Dryer (SRD)在確保半導體器件的質量和可靠性方面發揮著關鍵作用,在光刻機中提供了必要的清潔步驟。其先進的能力、精準的控制和高效的操作,使其成為半導體制造設施中不可或缺的工具,力求高產、一致的性能。
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