二手 SEMITOOL Spin Rinse Dryer (SRD) #293747905 待售
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ID: 293747905
SEMITOOL自旋沖洗烘幹機（SRD）是半導體工業中光刻加工的關鍵設備。SRD設備設計用於在光刻制圖過程後從半導體晶片中去除殘留的光刻材料。SRD的主要功能包括用高純度溶劑沖洗晶片，將其紡絲以去除多余液體，並幹燥以確保表面清潔無汙染物。SRD系統由幾個關鍵組成部分組成,這些組成部分共同努力以取得預期的結果。第一個元件是自旋模組，負責高速旋轉晶片，方便液體的去除。旋轉作用產生離心力，驅使溶劑脫離晶片，留下幹燥的表面。旋轉周期的速度和持續時間可以調整，以優化不同類型的光刻材料和圖案的清洗過程。SRD單元的另一個重要組成部分是沖洗模塊，它將受控量的高純度溶劑分配到晶片上，便於去除光致抗蝕劑殘留物。沖洗過程中使用的溶劑通常是去離子水和化學添加劑的組合，以提高清潔性能和防止晶片再汙染。沖洗模塊配有精密分配噴嘴，確保在清洗過程中晶片均勻覆蓋。除了自旋和沖洗模塊外，SRD機還包括一個幹燥模塊，利用熱和強制空氣的組合，從晶圓中去除任何殘留的溶劑痕跡。幹燥過程對於防止水斑和其他殘留物在晶片上形成至關重要，這可能影響後續加工步驟的質量。幹燥模塊配有溫度和氣流控制系統，以確保一致和有效的幹燥性能。SRD資產的控制工具在確保可靠和可重復運行方面起著至關重要的作用。控制模型管理自旋、沖洗和幹燥循環的正時、速度和溫度參數，以優化清潔性能，並最大限度地降低晶圓受損的風險。高級控制功能（如配方管理、數據記錄和警報）可幫助操作員監控和調整清潔過程,以滿足不同半導體制造過程的特定要求。總體而言，SEMITOOL Spin Rinse Dryer （SRD）是一種通用且高效的工具，用於去除半導體晶片中的光致抗蝕劑殘留物。通過在單個設備中結合旋轉、沖洗和幹燥功能,SRD使半導體制造商能夠在其生產過程中實現高水平的清潔和一致性。憑借先進的控制功能和可定制的設置,SRD系統為半導體行業的關鍵清潔應用提供了可靠的解決方案。
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