二手 SEMITOOL ST 280 #9160074 待售

SEMITOOL ST 280是設計用於半導體制造的光刻設備。它被設計用於晶圓等離子體蝕刻和濕化學加工室。該系統提供多步循環能力，具有精確的溫度控制、高均勻性和最優的過程控制。該模型在主流CMOS中75-200 µm基板的生產線加工和MEMS技術中特別有用。ST 280由強大的可編程邏輯控制器（PLC）驅動，並配有高溫多點電阻溫度檢測器（RTD）陣列，用於工藝室的快速傾斜和冷卻。利用高效、高性能的計量蒸氣輸送和惰性氣體控制系統，該裝置的精密加工部件構成了生產過程中可靠和必不可少的組成部分。該機具有四點基板支架傳感器陣列和集成攝像頭，用於在腔室中精確和可重復的基板對準。高度模塊化的洗滌器和清理工具保持了理想的緩沖器界面,進一步提高了資產的可靠性。為了優化基板加工，SEMITOOL ST 280采用了行業標準的腔室設計。x、y和溫度區產生極好的均勻性,晶圓的橫向中心到邊緣均勻性通常優於0.25 °C。樞軸環在z方向上提供額外的0.25°C均勻性變化。模型的氣體混合能力使得創建定制氣體壓力和流量剖面成為可能。這與各種基材一起，使設備能夠用於各種蝕刻和沈積過程。ST 280支持晶圓溫度控制從室溫到400°C，穩定度為6°C。高熱均勻性使制造商能夠減少過程窗口,實現過程可重復性和無與倫比的生產率,降低過程溫度,提高產量。該系統支持多種生產級光刻膠厚度。此外,該單元還采用了行業標準的4層電動卡盤升降機,無需進一步修改卡盤,以及通用卡盤,這是一項出色的功能,無需使用特定於過程的夾具。綜上所述，SEMITOOL ST 280是一種可靠高效的機器，為晶圓等離子體蝕刻和濕法化學加工室的光刻過程提供了卓越的精度和重復性。該工具可運行多種工藝，非常適合75-200 µm基板的生產線加工。它提供了卓越的控制、溫度均勻性和過程可重復性,可節省成本和產量。