二手 SEMITOOL WSST-805A #9270149 待售

製造商
SEMITOOL
模型
WSST-805A
ID: 9270149
晶圓大小: 8"
Water soluble strip system, 8" Designed to strip photoresist With water soluble based (NMP) strippers then do Isopropal rinse and dry 280 Matted bowl (Max size 8" wafers) (2) Heated NMP tanks (2) Non-heated Acetone tanks (2) Non-heated IPA tanks.
SEMITOOL WSST-805A光電抗蝕劑設備是一種先進的晶片自旋塗層和開發技術,為高質量的薄膜介電層提供可靠的沈積和處理。該系統采用晶圓技術,與鋁、銅、陶瓷、矽、石英等多種常見基板兼容。它專門設計用於處理直徑最大為8英寸的晶片,並在晶片的整個表面實現均勻覆蓋。該單元具有氣動操作的卡盤,可容納直徑達8英寸的晶片,並以最大450 rpm的自旋速度運行。它還包括0-50赫茲轉速範圍的晶圓電機。對於均勻的晶片覆蓋,機器具有可自動調節的旋轉斜坡速率,可以設置該速率以實現每種基板的最佳塗層厚度。該工具還配備了有助於確保薄膜沈積均勻性的沖洗資產。該模型使用抗蝕劑罐進行光刻和顯影劑的交付。將抗蝕劑罐加熱至最佳溫度,以便在加工過程中達到最大均勻性。加熱用熱電偶完成,由溫度控制的加熱器控制。溫度控制在不同的加工溫度範圍內是可調整的,這取決於抗蝕劑的類型。定時裝置允許操作員設置設備,以預編程間隔傳送所需的光刻膠量。該裝置還具有監測光刻膠濃度並相應調整電平的能力。該系統旨在確保每個處理步驟均具有準確、可重復的薄膜均勻性。該單元還包括一個閉環反饋回路,可以檢測過程條件的變化並調整機器以保持一致的處理。WSST-805A光敏工具是為現代半導體制造而設計的,在薄膜介電層沈積中具有較高的可靠性和精確度。它與多種常見的基材兼容,可用於加工直徑達8英寸的晶片。它還配備了加熱設備和定時裝置,以確保所需的光致抗蝕劑濃度和薄膜沈積的均勻性。該模型還配備了一個閉環反饋回路,該回路設計用於監控和調整過程條件,以確保批次之間的性能一致。
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