二手 SEMITOOL WSST-806A #9269858 待售

製造商
SEMITOOL
模型
WSST-806A
ID: 9269858
晶圓大小: 8"
Water soluble strip system, 8" Designed to strip photoresist With water soluble based (NMP) strippers then do Isopropal rinse and dry 280 Matted bowl (Max size 8" wafers) (2) Heated NMP tanks (2) Non-heated Acetone tanks (2) Non-heated IPA tanks.
SEMITOOL WSST-806A是一種光刻設備,設計用於處理制造半導體元件的單晶圓和多晶圓應用。它具有一個電動浸入式卡盤,溫度控制範圍為-20°C至+75°C,中心線高度可調。該系統配有高分辨率運動單元以及步進電機控制器,以便在所需高度和角度精確定位晶片。該機還具有高速自旋電機和溫度傳感器,用於精確的時間和溫度控制。光致抗蝕劑工藝通過化學和蝕刻工藝使用掩蔽圖樣從給定的材料創建設備。在這個特殊的工具中,光致抗蝕劑被應用到晶片上。所施加的光致抗蝕劑可以暴露於紫外線輻射或激光,其蝕刻到光致抗蝕劑的暴露區域。然後刪除暴露的區域,留下定義的模式。為了產生可靠和可重復的結果,光刻膠的時間和溫度必須在整個過程中得到準確的控制。SEMITOOL WSST806A資產旨在為光刻膠處理提供精確、一致可重復的環境。它具有高達2885 RPM的自旋速度,允許光刻膠曝光的優化時間和溫度。該模型還具有高分辨率、電動浸入式卡盤,溫度調節為-20°C至+75°C,可重復結果。此外,設備還配備了編碼器接口,可以精確控制晶圓的中心線高度。WSST-806A系統是半導體制造商創建具有可重復過程的復雜半導體組件的有效工具。其機動化浸入式卡盤和自動化單元參數提供準確一致的成像結果。高速自旋電動機和溫度調節提供可靠的光致抗蝕劑曝光,確保一個或多個晶片的可靠和可重復的處理環境。
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