二手 SEMITOOL WST-306MI #142239 待售

SEMITOOL WST-306MI光刻設備是一種先進的光刻系統,旨在提供精確的處理解決方案.它使用紫外線和光反應性材料在半導體基板和其他材料上創建結構。該裝置是一個兩臂機器，有兩個單獨的罐體，一個用於處理，一個用於沖洗，並且有能力在暴露期間測量和控制紫外線劑量和聚焦水平。WST-306MI光刻機具有高分辨率的步進對準階段，具有粗糙和精細的控制。步進器的高度穩定對準重復性為± 1.5 μ m,步長為0.1 μ m。它使用1、2和4個曝光點,具有從全場曝光到超硬邊曝光的一系列曝光設置,分辨率高達0.5 μ m。紫外線照射曝光時間可在10秒至10分鐘之間。SEMITOOL WST-306MI工具提供了先進的過程控制、自動化和安全性,如抗燃燒、抗滑動、劑量監控和實時曝光控制。該資產還有一個集成晶圓處理模式，內罐、卡帶到卡帶，以及原位加載、卸載和映射處理模式。設備先進的汙染控制系統可以進行可重復的清潔和去離子沖洗，對基板有輕微傷害，同時保持較低的總成核計數。物料處理單元，加上防排水、防爬坡和智能清潔算法，確保顆粒水平保持在顆粒水平和清潔的行業標準之內。WST-306MI光刻機設計精密、可重復性和過程控制，是各種光刻應用的理想選擇。它為所有需要微米級細節和高精度的項目提供了高效、安全和經濟高效的解決方案。SEMITOOL WST-306MI具有獨特的特點，使其成為先進半導體制造和其他納米技術應用精密光刻工具的理想選擇。