二手 SEMITOOL WST-406MG #35587 待售
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單擊可縮放
ID: 35587
晶圓大小: 4"
優質的: 2000
Wet solvent stripper, 4"
Strip photoresist with water soluble based (NMP) strippers
(270) Electropolished bowls: Maximum 6" wafers product
Brushless motor
Fire suppression
No tanks
Remote chemical cabinet
(2) Tanks:
Fresh PRS1000
Reclaim PRS1000
Power: 208VAC, 60 Hz, 30 Amps, 5 Wire
BAKER PRS 1000 Positive photoresist tripper
Accessories:
Chemical delivery module
Dual heated chemical tanks, 6 Gal
Dual chemical pumps
Chemical waste tank with pump
Dual chemical filters
Features:
Front loading with on-axis spin
Self-contained fluid dispensing and recirculation
Surfaces: Stainless steel or Teflon coating
Spray and atomizing manifolds for fluid deliver
Microprocessor controlled process
Rotor installed for 150mm, P/N: A194-60MB-0215
Sub-system: Chemical cabinet
SEMITOOL Graphic controller display screens
Power supply: 208 VAC, 50/60 Hz, 30 Amps, 3-Phase.
SEMITOOL WST-406MG是一種最先進的光刻設備,設計用於濕法加工,例如清潔環境中晶片的清潔、蝕刻和鍍層。該系統通過自動反饋循環控制潮濕過程的溫度、濃度和持續時間，使用戶能夠獲得可重復的高質量結果。WST-406MG是一個模塊化單元,可以輕松配置以滿足各種流程的需求。它具有通過先進的數字加熱和冷卻機來控制溫度的特點，該機保持在20°C至80°C之間的精確和一致的溫度範圍。該工具還能夠用pH計和滴定調節器精確控制光刻膠溶液的濃度。SEMITOOL WST-406MG還具有廣泛的自動化過程控制功能,允許用戶對易於調整的精確定時過程進行編程。這種靈活性使用戶能夠輕松地使資產適應其特定要求。該車型還具有自動關閉、流體泄漏檢測等集成安全功能，防止事故發生，確保潔凈室環境提供安全運行。WST-406MG有一個高容量、精確的自動晶片處理設備，可以在單個處理周期內執行多達16個晶片，最大晶片直徑為200毫米。自動化處理系統可確保可重復的結果和最小的停機時間。SEMITOOL WST-406MG還提供具有數據記錄功能的流程監控,允許用戶實時記錄和分析其流程的性能。此功能對於故障排除和提高最終結果的質量至關重要。總體而言，WST-406MG是一個先進的柔性濕處理裝置，能夠生產出非常高質量的光刻晶片。它的自動化操作和集成的安全功能保證了一致的結果,並減少了操作員的幹預,使其成為在要求苛刻的清潔環境中使用的理想選擇。
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