二手 SEZ / LAM RESEARCH 4300 #293587004 待售

SEZ/LAM RESEARCH 4300光阻設備是一種革命性的工具，設計用於半導體晶圓加工、微電子器件制造和其他精密操作等應用。該系統配備了生產級200 mm Class 1光刻工具。它支持快速的單元操作、精確的抵抗暴露和出色的分辨率,以及靈活性和可擴展性。SEZ/LAM4300有一個晶圓處理機，由離子植入器和電子束蒸發器組成。這允許精確抵抗應用和配置文件修改,這兩者都可以在不同大小的基板上成功執行。該工具允許多個曝光設置,這些設置可以根據項目的確切要求進行自定義。MaximusTM軟件套件還可用於監視和控制資產,從而確保可重復進程具有一致的抵抗性能。該模型采用了由FOUP（前開式統一吊艙技術）技術組成的強大的光學設備，是為高通量運行而構建的。FOUP使得晶片能夠在其內部載流子和DPS（直接等離子噴霧器）之間快速轉移。DPS是一種300 mm兼容的光刻工具，聚焦離子束以精確蝕刻抗蝕劑。MaxEtch工具套件與DPS集成在一起,可以快速輕松地調整曝光參數。LAM RESEARCHY/LAM SEZ 4300還具有一組高級功能,如深入的曝光配方庫和預設的抗蝕劑配置文件。它允許完全定制蝕刻過程,包括圖樣和統一蝕刻。該系統還具有Endura Interface,它旨在提供對多路功能的訪問,並支持批量生產。最後,SEZ/LAM RESEARCHY/LAM LAM RESEARCH 4300光阻裝置配合全球服務和支持,符合SEMI S2、J-STD-001和IEC60881等合規標準。