二手 SEZ / LAM RESEARCH 4300 #293598011 待售
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單擊可縮放
ID: 293598011
晶圓大小: 12"
優質的: 2005
Spin etcher, 12"
Dual arm robot
(4) Multi level process chambers
Chemical cabinet
Load port
FFU and exhaust
Chemical dispense system
Operating system: Windows NT
PC
Power supply: 400 V, 75 A, 50/60 Hz
2005 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH 4300是一種光刻抑制劑設備，設計用於協助半導體制造商進行光刻工藝。它是一種高精度設備，用於識別和精確劑量光刻工藝中使用的光刻膠。SEZ 4300使用基於專利算法的過程控制在一個集成單元中掃描、識別和精確劑量光抗蝕劑。它可以很容易地集成到現有的光刻系統工作流程中。LAM RESEARCH 4300單元允許廣泛的光致抗蝕劑應用，從深紫外線（DUV）到電子束（EB）。它由幾個組件組成，包括一個光源、一個光敏塗抹器、一個基板表和一個控制器模塊。光源在整個基板上提供穩定和均勻的光圖像，以實現均勻的光刻膠分布。光敏塗抹器由配電閥、配電噴嘴和配電頭組成，可精確控制光敏配電過程。基板表在將基板暴露於光源之前支持基板。除了提供準確可靠的光刻膠應用外，該機還具有其他有益的特性。它有一個板載視覺工具，可以檢測基板表面的任何不規則性，從而確保高質量的結果。其自動基板識別資產可以在曝光前快速識別基板尺寸和圖樣。其機載數據記錄模型提供了廣泛的數據和過程的統計分析。4300是一種最先進的光刻抑制劑設備,旨在使制造商在光刻過程中獲得更大的控制和靈活性。它可以顯著降低光致抗蝕劑的消耗並提高產量，從而提高半導體制造商的效率和成本節約。
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