二手 SEZ / LAM RESEARCH 4300 #293662196 待售
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SEZ/LAM RESEARCH 4300是專為在半導體晶片上創建亞微米模式而設計的光阻設備。它是一個兩階段的過程，從光刻開始，將光聚焦在覆蓋著一層薄薄的光刻膠的半導體晶圓上。這個過程在表面上創建了一個裸露區域的圖樣，然後可以開發並蝕刻到晶圓的基板上。這一過程的第二階段，稱為曝光後烘烤（PEB），涉及利用熱量促進晶圓上永久模式的形成。SEZ 4300是一個全自動系統，具有先進的光學單元，以確保光刻膠在半導體晶片上的精確曝光。它利用高分辨率的光刻標線來確保電路元件的極精確的陣列。它還具有獨特的排氣機，最大限度地減少氧氣的進入，以改善表面對比度的發達抵抗模式。LAM RESEARCH 4300專為高精度應用而設計，如口罩制造、光電器件、微電子處理等。它配備了最新的技術和統計過程控制，以確保光刻、開發和蝕刻過程中晶圓的一致性。它還具有易於操作的用戶友好界面。4300是一種設計用於半導體制造的強大光刻工具。它提供了高精度的圖案，出色的表面對比度開發的抗蝕劑圖案，以及簡化的用戶界面，以便於操作。這種光致抗蝕劑資產是為半導體產品制作復雜先進設計的重要工具。
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