二手 SEZ / LAM RESEARCH 4300 #9211221 待售

SEZ/LAM RESEARCH 4300光敏設備是一種高性能、大容量、自動化的光敏系統，設計用於光敏材料和光敏材料的沈積。它具有先進的特性，為沈積過程中的光刻過程提供精確的控制。該單元包含兩個獨立的處理室，為多種光刻膠和光掩模材料提供先進的預處理、烘烤和後處理能力。SEZ 4300 Photoresist Machine具有全尺寸8 「x 8」沈積室，具有可移動的級，允許精確和可重復的光刻層厚度。此階段可以使用計算機控制軟件包手動或自動操作。該工具還包括一個Linkam加熱/冷卻階段（LHS），它創造了一個統一的加熱環境，以實現最佳的光阻過程控制。LAM RESEARCH 4300具有一個用於精確基板處理的全自動機械臂和一個用於監測和控制光刻膠層厚度的閉環反饋資產。它還包括用於精確校準和精確控制光刻膠層厚度的標準化校準模型。4300還配備了先進的工藝控制儀器，如用於基板平坦度和表面粗糙度測量的激光束剖面儀和用於在線監測光刻膠成分的質譜儀。SEZ/LAM RESEARCH 4300設備為各種基材和基材尺寸提供了高通量率和高產光致抗蝕層。它還與多種光掩模材料兼容，可用於控制和調整掩模以達到基板配準精度。該系統包括一個高度可配置的用戶界面,以便於與現有生產環境集成。SEZ 4300光刻裝置是一種先進的、高性能的光刻沈積機，非常適合工藝開發、生產和研究應用。該工具提供了沈積過程中光刻膠工藝的精確控制，並為光刻膠和光掩模材料提供了均勻的沈積層。該模型具有先進的自動化、閉環反饋、標準校準資產和內置的安全特性，可提供高通量和高屈服率的精確可靠的光敏沈積。