二手 SEZ / LAM RESEARCH Gamma GXT #9226988 待售
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ID: 9226988
晶圓大小: 12"
優質的: 2015
Photoresist stripper, 12"
MFC: HORIBA Z500
Gases:
O2: 10000 SCCM
N2: 10000 SCCM
CO2: 2000 SCCM
CF4: 100 SCCM
AR: 3000 SCCM
4%H2/N2: 10000 SCCM
H2: 5000 SCCM
NF3: 50 SCCM
NH3: 5000 SCCM
ENI GHW-50 RF Generator
MPD
Load port
2015 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH Gamma GXT是一種光阻設備,用於完成掩模制造、圖樣傳輸和其他敏感過程等應用,這些應用要求精確控制光刻材料薄層暴露於光源的情況。它是專門為生產和研發模塊配置生產可靠的加工和優化產量而設計的。該系統具有專有的軟件、控件和硬件,SEZ專門為其預定的應用程序量身定制。在其核心，一個SEZ Gamma GXT型光抗蝕劑單元通過有效地將薄層的可光處理材料暴露在入射紫外線（UV）光束或電子束中來改變其化學結構或性質來發揮作用。它通常由一個抗蝕劑塗層、一個光致抗蝕劑顯影劑、一個光源、一個透鏡機和一個晶片級組成。LAM RESEARCH Gamma GXT的抵抗塗層負責在圖樣前在基板上塗抹一層均勻準確的光層。這是通過使用特殊的塗層頭來實現的，這種塗層頭可產生實心膜，可通過手動參數和用戶可調參數的組合來精確控制。接下來，晶片被放置在一個電動舞臺上，並移動到光刻膠顯影劑上。在這種情況下，混合和化學溶液會溶解光致抗蝕劑的暴露部分，從而形成所需的圖樣。開發人員要求用戶以極高的精度管理循環時間和溫度等過程參數，以便創建具有嚴格公差的精確模式。光源是任何典型伽瑪GXT工具的關鍵組成部分，負責晶片暴露於紫外線。它可以配置為匹配所需的目標波長、脈沖長度和能級設置。由聚焦元件、透鏡和反射鏡以及快門資產組成的先進光學組件負責將光引導到晶片級。這樣可以確保光處理材料的選定區域只能暴露在光線下,而其他區域不受影響。最後,晶片級在曝光過程中牢固地固定基板的位置,並且必須與模型中所有其他組件的移動同步。SEZ/LAM RESEARCH Gamma GXT系列提供靈活、可調的舞臺，具有廣泛的運動能力，以滿足不同的處理需求。總體而言,SEZ Gamma GXT旨在在高容量光阻應用過程中提供精度、準確性和可靠性。它擁有先進的自動化功能、優化的處理質量和卓越的環境管理,使其成為滿足大多數光掩模生產和開發要求的可靠解決方案。
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