二手 SOLITEC 5110-D #9270248 待售
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ID: 9270248
Coater / Developer system
Size: 8 mm
Substrate sizes: 9" Round x 6" Square x 9" Diagonal rectangular
Time: Variable from 1-999 seconds in 1 second increments
Plug-in modules
Acceleration: 1,000-40,000 RPM/s
Spin speed control: ±10 RPM
SOLITEC Diaphragm dispense pump
Single chuck for wafers, masks or substrates
Backsplash control: Downflow exhaust system
N2 Motor purge and interlock
Vacuum interlock on wafer chuck
(5) Gallons drain buckets with exhaust
Closed loop servo speed control for tight process control
Polypropylene waste container
Digital tachometer with direct optical encoder
Solvent dispense before coating
N2 Blow-off
Applications:
Positive resist coatings on wafers, masks and substrates
Negative resist coating on wafers, masks and substrates
PMMA and E-Beam resist coating
Silicon, GaAs, InP and other semiconductor materials
Polyimide coatings on wafers, masks and substrates
Photosensitive polyimide coating
Multi-layer resists.
Includes:
Wafer chuck and loading paddle
Operations manual.
SOLITEC 5110-D光刻設備是一種用於創建集成電路的光刻工具。該系統旨在使制造商能夠精確高效地創建納米級結構。該單位利用三通道光源和先進軟件來適應復雜的工藝要求，包括各種摻雜濃度和暴露時間。光刻系統由幾個部分組成，這些部分對於基材的光刻加工是必不可少的。光源是第一部分，負責在365 nm、405 nm、436 nm三個頻段發射紫外線。然後，這種光被一組透鏡收集，並使用標線聚焦到樣品上。標線由計算機控制，負責提供基板的關鍵圖樣。該機還可以與電子束光刻工具配合使用，從而可以進一步細化圖案。除了SOLITEC 5110D的直接陣列設計功能外,還有其他功能使其非常適合生產級納米級結構。可以自動進行曝光和制圖，從而無需手動調整光源。此外，它還有一個集成的晶圓步進器，這樣可以減少使用多個基板時的啟動時間。為了安全起見，該工具還包括一個緊急關閉開關。為了控制制圖過程，可以使用復雜的軟件來操縱眾多參數，包括曝光時間、強度、占空比等。該軟件基於經典的生產級算法，允許對整個光刻膠工藝進行精確控制。此外,還可以對軟件進行校準,以精確定位基板上的抗蝕層,從而減少晶圓未對準造成的資源浪費。總體而言，5110-D是生產微型和納米結構的寶貴工具。它具有可調的三通道光源和集成的晶圓步進器，非常適合生產級納米加工。隨附的事故截斷開關為用戶提供安全保障。此外，復雜的軟件解決了許多復雜的模式，減少了需要手動調整光源。這一點，加上其精確的圖案能力，使其成為生產高品質納米結構的理想選擇。
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