二手 SRD CT-303 #9301058 待售

SRD CT-303是一種用於半導體器件制造的光刻設備.該系統建立在常規的負性光刻材料的基礎上，這種材料暴露在紫外線下，形成了一個被轉移到基板上的圖樣。CT-303單元利用了兩種液體成分，一種是光活性的，另一種是無活性的顯影劑，可以靈活地形成精細的公差，微妙的表面細節和復雜的圖樣。光活性成分是一種光敏丙烯酸聚合物，由SRD配制而成，具有特定的分子量，可實現精確的抗厚度控制、優越的分辨率和更高的對比度圖像。這種光活性材料通過阻光屏障與非活動顯影劑分離，產生了一種機器，它允許暴露於可快速調節的紫外線下的時間。一旦確定了曝光和重新分布時間，基板就塗上了光活性材料。使用常規光刻膠中使用的相同光照技術，當未曝光的部分被非活性顯影劑沖走時，在光活性層中創建所需的圖樣。SRD CT-303中創建的圖樣範圍為0.2至3.0微米，可用於創建電路線路小於1微米的掩模層。CT-303工具比競爭對手有幾個優點。由於這種資產設計用於幾種不同的基材，因此電阻器可以輕松地在有機材料、復合材料和氧化物材料上工作，從而無需根據材料在產品之間進行切換。該型號還具有出色的光學透明度，允許創建薄層和更精細的分辨率。總體而言，SRD CT-303是一個可靠和強大的光刻設備，能夠創造復雜的模式到幾微米。具有卓越的分辨率，令人印象深刻的傳遞比，以及暴露層和未暴露層之間的出色對比，該系統適用於許多不同的基材材料和應用。