二手 SSC BPE-2708-SP #9150877 待售

SSC BPE-2708-SP光敏系統是為高質量光刻應用而設計的。它是一種高度發達的液體光刻設備，具有優異的成像和圖樣傳遞特性。該系統采用深紫外化學放大的正工作光刻膠，設計用於各種基板，包括矽片。該裝置結合了先進的化學和光刻制造技術，提供了優異的效果。BPE-2708-SP光敏機由液體光敏成分或PAG、aDeveloper、aSurfactant和aPolyol敏化劑組成。該工具設計為在作為一個整體過程一起使用時效果最佳。光活性成分PAG是一種非揮發性液體，通常與正光致抗蝕劑系統相關。由芳香族聚合物組成，並摻入液體介質中。PAG提供了卓越的圖像分辨率和對深紫外線的靈敏度。開發人員設計用於遮蔽曝光區域,並將圖像投影到基板上。有兩種類型的顯影劑，水性和溶劑基。水性顯影劑采用酸性溶液，非常適合層壓基板上的高分辨率圖像。溶劑基顯影劑使用堿性溶劑，建議用於高級蝕刻工藝。SSC BPE-2708-SP資產還利用表面活性劑使PAG溶解。這種表面活性劑幫助液體光刻劑平滑均勻地流動，以均勻的分辨率覆蓋底物，並抵抗氣泡的形成。溶劑致敏聚醇用於提高PAG暴露於顯影劑時的溶解度。在光刻過程中，光刻膠在預定義的時間內，以預定的強度暴露於紫外線下。光活性成分被紫外線照射激活，發展過程開始在抗蝕層中產生所需的圖樣。底物完全暴露後，用水或酸性溶液洗滌。抗蝕層的可溶性物質被沖走，露出花紋。BPE-2708-SP光刻模型是高分辨率電路制造的優越工具。它結合了快速、高效的成像、卓越的靈敏度和出色的蝕刻特性，是許多制造要求的理想選擇。這種光致抗蝕劑設備能快速、可靠地提供所需的效果,而且材料浪費極少。