二手 SSE Maximus 804 #293633410 待售
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ID: 293633410
晶圓大小: 2"-6"
Coater / Developer system, 2"-6"
Option: Resist syringe
(3) Media tanks: EBR, CD26 (Developer)
HMDS Station
(2) Hotplates
Cool plate
Video pre aligner
Proximity wafer handler on hotplate: 0 mm - 11 mm
Robot wafer handler
Coater: EBR and BSR
Maximum coating speed: 6000 RPM
Maximum developing speed: 6000 RPM
Developer: BSR
Developer nozzles:
Pray
Puddle
(2) Resist pumps:
SPR 700 1.2
AZ4533
Hot plate:
Temperature uniformity and control: +0.5°C at 100°C
Maximum temperature: 250°C
Cool plate:
Temperature uniformity and control: +0.5°C at 20-30°C
Spin process uniformity:
Photoresist uniformity (Across wafer): <15 Å (1 Sigma)
Photoresist uniformity (Wafer-to-wafer): <20 Å (1 Sigma).
SSE Maximus 804是一款可靠、用戶友好的光敏設備，專為光敏材料在半導體和電子元件制造中的應用而設計。該系統能夠準確地形成高長寬比特征。它利用先進的技術來產生高質量的圖像，而不需要極其精細的細節。Maximus 804單元由三個主要組件組成：曝光裝置、傳輸裝置和開發裝置.曝光裝置以數字直接成像（DDI）機為基礎，帶有允許高速成像的Laser Diode陣列。傳輸裝置便於通過光學或熱印跡將圖像傳輸到實際的光致抗蝕劑基板上。研制裝置采用浸泡或噴霧工藝，可對各種光刻材料的成像結果進行優化調整。該工具能夠使用各種光刻材料，並能夠支持從微米到毫米的各種特征尺寸，以優化加工參數。它設計用於接觸、步進、投影和深反應性離子蝕刻（DRIE）等各種光刻工藝。有了幾種操作模式，如手動、半自動或全自動，資產允許用戶選擇最適合自己需求的模式。SSE Maximus 804車型也因其高品質的零部件和構造而具有很高的可靠性和耐用性。它具有最先進的基於微機電系統（MEMS）的光學組件,可抵抗機械沖擊、過熱和灰塵。該設備具有強大的控制器接口,非常適合工業環境,並確保在長時間使用時性能一致。總體而言，Maximus 804系統憑借其可靠的性能、先進的技術和廣泛的操作模式，是各種光刻膠應用需求的理想選擇。它可以產生高質量的圖像,並確保高縱橫比特征的精確形成.此外,它的用戶友好型設計、廣泛的選項和高可靠性使其成為滿足小規模生產和大規模制造需求的有吸引力的解決方案。
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