二手 SSE Maximus 804 #293651477 待售
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ID: 293651477
Coater / Developer system
Hot plates, 8"
Substrates: 6" x 6"
Cabinet
3-Axis robot
End effector vacuum standard, 4" -6"
Flat touch screen monitor
Computer
Ethernet interface
Cassette loading plate, 6"
Touchless video pre-alignment, 6"
Light tower: Red, yellow and green
Remote controller
Open bowl: 10,000 RPM
Acceleration ramp: 50,000 RPM
Spinning time: 0.1-999 Sec
Standard drain with 5I waste tank
High level sensor
Clean dry air pressure: 8 ±.2 bar
Vacuum: -0.8 ± 0.2 bar
Coater and developer module:
Bowl, 8"
Waste tank with high level sensor: 5 Litres
Chuck, 4"-6"
BSR Nozzle
Media valve
Tubing
Nozzle
(3) Dispense pumps: 15 ml
EBR Nozzle
Hot / Coolplate stacker module:
8-Slots
Nitrogen purge
Vacuum
Exhaust
Coolplate, 8"
(2) Hotplates, 8"
Temperature uniformity and control: +0.5°C at 100°C
Maximum temperature: 250°C
HMDS Vapor prime hotplate, 8"
Temperature uniformity and control: +0.5°C at 100°C
Maximum temperature: 200°C
CE Marked
Power supply:
3 x 208 VAC, 60 Hz, 32 A
3 x 400 VAC, 50 Hz, 32 A.
SSE Maximus 804是一款光刻設備，旨在為各種光刻和蒙版制作應用提供全面的解決方案。該系統用於在制造半導體器件、印刷電路和其他微電子元件時將電路模式傳遞到基板或晶圓上。Maximus 804利用「傳統」紫外線（UV）光致抗蝕劑單元，意味著它使用對紫外線敏感的化學塗層，導致在暴露於紫外線時形成圖樣。該機具有多種部件,可確保高效、準確的模式傳輸.它具有一個主工具控制器，負責所有組件的操作，一個用於精確放置用於處理的基板的對準資產，以及一系列用於各種應用的光刻膠選項。為了獲得所需的圖案結果，必須實現掩模和基板的精確對齊。該模型利用對齊設備精確定位基板。對準系統能夠使用數碼相機單元和4軸機械臂的組合自動對準亞微米精度。該機還配備了光敏噴霧工具，利用專門設計的噴嘴將一層薄而均勻的光敏塗層塗在基板上。該資產具有高達24英寸的光刻膠輸送範圍，可用於石英、玻璃、矽和各種金屬等多種基材。最後，UV曝光模型（UV Exposure Model）形成了一個圖案，利用激光源將光刻膠材料暴露在紫外線（UV）下，導致在基板上形成一個定義的圖案。UV Exposure Equipment能夠產生尺寸可達36英寸的圖樣,並為各種抗性處理條件提供廣泛的暴露強度。總之，SSE Maximus 804為各種光刻和蒙版制作應用提供了一種全面的光阻溶液。它具有一套現代化的組件，如對準系統、光刻噴霧裝置和紫外線曝光機，都集成在一個工具中，使其成為光刻工藝的理想工具。
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