二手 STEAG Cluster 421 #9136000 待售

STEAG Cluster 421是一款光刻設備，設計用於大體積、高精度生產平面和圓柱形透鏡，以及光電元件。它利用曝光資源來模擬各種類型的光學儀器特性，並利用光刻工藝在基板上創建不同的結構。群集421提供卓越的精度,其光斑尺寸為50 mm （1.97 in）。光致抗蝕劑系統設計用於容納多種基板，包括無定形和結晶材料，以及所有類型的石英、玻璃和塑料表面。STEAG Cluster 421還支持各種不同表面形狀的基板，非常適合復雜的光學制造。光致抗蝕劑單元包括一個打印頭，可用於將光致抗蝕劑材料塗抹到基板上，以及顯影機，可用於開發光致抗蝕劑材料。開發工具配置為以高開發速度提供高分辨率的結果，使其適合大批量生產。聚類421還包括控制曝光和開發過程的工具，使用戶可以根據自己的具體需要定制光刻膠資產。例如,用戶可以選擇正確的曝光資源以確保獲得最佳結果。光刻膠模型還具有控制顯影劑溶液溫度的能力，允許在開發過程中提高精度。綜上所述，STEAG Cluster 421是專門為大批量生產光學元件而設計的光阻設備。它提供了極好的精度和速度，和光刻材料可以量身定制，以適應各種基材。此外，用戶有能力控制接觸和開發過程，確保取得最佳結果。