二手 SVG 86 #9181739 待售

SVG 86是一種用於光刻微芯片設計和制造的「光刻」設備。為雙層薄膜系統；第一層是對高能光源如紫外線（UV）或深紫外線（DUV）的暴露更敏感的光刻膠。第二層是反反射（AR）層，有助於減少或消除反射造成的失真。86單元由聚合物光致抗蝕劑的特殊組合組成。這種組合形成了一個復雜的抗蝕機，具有優於基材的附著力和高分辨率。組合不僅增加了影像的解析度，也降低了它對變數的敏感度，例如在光刻過程中經常出現的水分、溫度和化學環境。SVG 86工具針對先進微電子器件的陣列進行了優化。因此,它使用可篩選的正反射和負反射的組合,以最低的靈敏度和反射率獲得最高的分辨率。86光敏資產適合多種曝光源，包括ArF準分子激光和DUV準分子源。SVG 86模型的主要優點是即使在存在環境和物理變量，如水分、溫度和化學環境的情況下，其高分辨率和低靈敏度也得以維持。這是由於設備中使用的抗蝕劑組合的特殊特性。另外，與其他抗蝕劑相比，86提供了更好的抗蝕劑與基板的附著力，以及改善了圖案金屬層的附著力。SVG 86系統還具有生產均勻薄膜輪廓的能力，特征高度低，CD變化小。均勻性有助於在納米級創建一致的結構。抗蝕層與基板的附著力得到改善，有助於減少在下一個制圖階段剝落、剝落或開裂的風險。此外，86單元還可用於具有挑戰性的「步進」應用，需要高介電值的高分辨率成像。圖案化層可以進行優化，以增加照明區域的通量，同時允許更清晰的特征和更好的圖案化。總體而言，SVG 86機器是一種高度先進的光刻刀具，設計用於生產精確的光刻微電路，具有良好的基板附著力和優良的特性和高分辨率。86由於結合了高度復雜的聚合物，是生產小型和高分辨率電子器件的可靠和經濟高效的資產。