二手 SVG / ASML 90 #9070809 待售
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單擊可縮放
ID: 9070809
晶圓大小: 8"
Track system, 8"
Wafer: notched
(5) Vacuum Bake Ovens
(1) Vapor Prime Oven
(1) Chill Plates
(12) Stations, interfaced
(7) Serial arms
Facilities location: through the floor
Coater and developer direct floor drains with exhausted drain box
IRS rotators and platforms
(1) Coater:
Photoresist Temperature Control
Air Temp / Humidity Control
(2) FAS / Millipore model 250 pumps w/ programming pendant
100cc TEBR Millipore unfiltered pump
(2) 100cc BEBR Millipore unfiltered pumps
(1) 25cc Millipore unfiltered WCDS pump and controller for Track Adhesion Promoter
SVG 25cc Millipore unfiltered pump
Dispense line OD (nozzle tip = 3/8² for Lines # 1.2; = 1/8² for Line # 3)
SVG Pumps and controllers
(1) SS non-coated 3 gallon un-pressurized vessel with 4 liquid level sensors
(2) Developers:
Air Temp / Humidity controller
High flow (2 stream) nozzles and dual chemistry developer fluid dispensing system
(2) Stainless Steel Tefzel coated, 3 gallon pressurized canisters with 4 liquid level sensors
0-60 psi canister gauges
Degasifier on Develop lines
Floor: solid SS spill containment with overflow sensors
Control Module integrated on end station
MCE on IES
SECS I/II interface
Power Requirements 208 volts, 3-phase, star, 60 Hz.
SVG/ASML 90是一種用於制造集成電路的光阻設備。由具有先進多級閘門技術的真空掃描系統、激光掃描曝光、計算機控制處理等組成。這種裝置非常適合制造高級半導體生產中常見的細線型式所需的高精度和嚴密控制。SVG 90掃描機使用串行光束，以最小的散粒噪聲實現均勻曝光。該工具可以以高達1000線/秒的速度運行，光束尺寸可以在6到15 µm之間。舞臺資產可以以25mm/s的最大速度將模具從曝光移動到顯影，並提供10微米的高位置精度和可重復性的非接觸式過渡。該模型由計算機控制的掃描和曝光參數可以精確控制制圖過程。ASML 90采用激光掃描曝光設備,具有可變的激光功率和光斑大小.曝光時間可以靈活編程,以適應客戶的流程需求。該系統之後是一個可編程的開發過程，確保了均勻性，並配備了先進的圖像噴射處理技術來預先鑒定回收的標線。最後,對處理過的標線進行自動分類。90年代的高級掃描、曝光和處理功能相結合,提供了一定程度的控制和準確性,使其非常適合生產高精度圖案和細線特征。該單元的靈活性允許使用不同的曝光選項、擴展的過程參數以及改進的質量控制程序。SVG/ASML 90直觀的用戶友好界面使其易於集成到現有生產線中,並使工程師能夠快速查看和調整其設置以獲得最佳效果。SVG 90提供的高吞吐量和精確度使其成為半導體生產應用的絕佳選擇。
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