二手 SVG / ASML 90S #9032372 待售
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已售出
ID: 9032372
Coater / Developer track system, 8"
Wafer Size: 200mm, notched, System on floor
Right hand only unit
104” Stand-Alone Cabinet
2 Coat Modules w/chemical edge bead removal, 2 Develop
Modules, 6 Vacuum Back Ovens, 2 Vapor Prime Ovens, 3 chill
Plates, 1 OEBR Module
Photoresist Temperature control
Air Temperature and Humidity control(Coater and Developer)
Complete air recirculation environmental control over all modules
4 serial arms and 1 90SE serial arm
Floor is solid SS spill containment w/overflow sensors
Solid doors in front of gauges and flow meters
Control Module on CES, (left or right-integrated)
Interface is rear pull
208 volts, 3-phase 60Hz
Coater direct floor drain (Tee in cabinet)
Developer direct floor drain (Tee in cabinet)
Full clogged drain sensor on each coater
Full SEMI S2-93 Containment for solvent/pump drawer enclosures, bulkhead
Facility sensors for vacuum generators, DI water and
Caustic exhaust
SECS Communication Port
Millipore controller / resist pump upgrades
1997 vintage.
SVG/ASML 90S是由SVG開發的光阻設備，以具有競爭力的價格為半導體制造商提供卓越的性能和可靠性。該系統是一個全自動、高精度、計算機控制的曝光單元，使用可掃描的狹縫掩模，以便在微電子裝置制造過程中能夠將計算出的光學圖樣精確地轉移到光阻表面上。該機采用專門設計的光源來曝光光刻膠，采用激光和電子束成像的可自定義組合。SVG 90S提供了出色的特征分辨率和控制,這是因為掃描狹縫掩模的精確度明確,可以針對不同的曝光級別進行調制,並能夠補償任何曝光變化。此工具還允許基板的背面偏置,從而影響特征臨界尺寸（CD）和曝光緯度。ASML 90S由於其掃描運動和全鋁層狀鏡而提供了高均勻性和可重復性，可用於從單點源引導多種劑量。它對掃描面罩和光源的可重復同步提供了CD和曝光緯度在各種基板形狀和尺寸上的出色可重復性。資產還支持眾多處理室，可以優化圖像質量，降低顆粒和缺陷水平，提高整體產量。光刻膠模型的劑量精度是顯著的，因為它能夠補償任何曝光變化，它的高分辨率源點，以及它的優化光源和腔室設計。總體而言，90S光刻設備憑借其計算機控制的曝光系統、廣泛的劑量、高均勻性和可重復性以及優化的腔室設計，提供了卓越的可靠性和性能。其先進的功能使半導體制造商能夠制造具有精確特性和受控基板響應的高質量集成電路。
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