二手 SVS CIE-DV3-028 #9364592 待售

SVS CIE-DV3-028是一種光刻光刻設備，用於在基板表面上產生納米級結構、薄膜和其他圖樣。光致抗蝕劑是一種有機材料，它被塗在薄層中並暴露在光線下，從而引起化學反應，只去除或改變光致抗蝕劑的暴露區域。其余區域或圖案化特征構成了廣泛的材料加工操作的基礎。CIE-DV3-028是一種基於novolak的正光刻膠系統，由光刻膠、顯影劑和顯影劑增強劑組成。與其他光阻系統相比，基於novolak的光阻單元提供了卓越的分辨率、清晰度和圖像保真度。該機針對193 nm、248nm以及其他DUV和EUV曝光波長進行了優化。SVS CIE-DV3-028工具利用專有酸化學提高分辨率。這允許具有較低（<1%）網橋寬度的較緊特征。此外，它是市場上最薄的光刻膠系統之一，經固化後厚度僅為0.2 μ m。這種特性改善了基板表面的發展均勻性，這對於高分辨率光刻工藝尤其有利。在工藝靈活性方面，CIE-DV3-028光致抗蝕劑資產可與濕法和幹法結合使用。該模型還提供了改進的曝光後固化和熱回流。由於設備便於重復蝕刻過程,因此用戶可以期待出色的保護,以防止邊緣珠子、空隙和汙染。SVS CIE-DV3-028系統也很可靠；該設備強大的成像能力可在具有環境挑戰性的條件下提供統一、可靠的陣列性能。這對於溫度、濕度或其他處理參數具有高度可變性的情況是有利的。總體而言,CIE-DV3-028臺機器提供了一系列高級功能,使其成為各種光刻應用的理想選擇。該工具出色的分辨率和可靠的性能使其成為半導體工業發展納米級模式和其他特點的可靠選擇。