二手 TAZMO Semix #293597130 待售
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TAZMO Semix是一種用於半導體晶片蝕刻和制圖工藝的光刻設備。它由兩個主要成分組成：光敏塗層及其發展過程。光致抗蝕劑是應用於晶片的化學混合物，通常使用自旋塗料。光刻膠塗層包含一種光敏劑，會暴露在光源下。暴露導致抗蝕劑發生化學變化，可用來制造圖樣。開發過程如下，其中抗蝕劑用顯影劑進一步處理，未暴露於光線的區域被移除。通過光敏塗層和開發過程的結合，與其他方法相比，工程師能夠以更高的效率在材料上精確地制作圖樣。Semix光致抗蝕劑采用丙烯酸基制劑，具有高性能光活性化合物和專有有機通量添加劑的獨特混合物。這種專有配方提供了優越的蝕刻阻力和銳利的邊緣清晰度比其他光刻在市場上。TAZMO Semix光致抗蝕劑系統擁有成本低、性能優越，是晶圓制造工業的理想選擇。該單元還在多種半導體材料中提供了出色的附著力和柔韌性。Semix光致抗蝕劑具有優異的拱形性能，能夠有效地保護底層材料，同時能夠以分辨率和準確性傳遞圖樣。TAZMO Semix光刻膠塗層具有優良而寬廣的鈍化、清潔度和無空性能。它還含有一種專利的水基溶液，有助於低溫開發和清潔過程。該機設計用於多種基材，包括氧化矽、氮化矽、石英、氧化鋁等。最後，Semix光刻膠系統還提供有效的工藝後蝕刻保護，並且具有廣泛的敏感性。該工具非常適合低成本地處理診斷、測試和其他高度關鍵的應用程序。TAZMO Semix具有廣泛的敏感性和定制選項,是制造任何類型半導體產品的理想選擇。
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