二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9105213 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是半導體產業內光刻工藝中使用的光刻系統。它是一種氣相沈積技術，用於將一層薄薄的光敏材料沈積到矽或玻璃等基板上。該技術的工作原理是將液體單體、敏化劑、固體填料和稀釋劑結合在一起，形成一種光敏材料懸浮液。然後通過噴霧器或通過自旋塗層技術將這種懸浮液施加到基板上。一旦光敏塗層被保證是均勻的，它被固化，使其附著在基板上。一旦光致抗蝕劑層固化並粘附在基板上，材料就對輻射敏感。TEL ACT 12使用較低紫外線能量的短脈沖，通常以內置激光源的形式，引起光致抗蝕劑暴露於活化輻射源。基板的底層圖樣現在作為一個掩模來確定抗蝕劑顯影的成像分辨率。光致抗蝕劑是利用化學發展過程開發的，該過程將光致抗蝕劑的可溶性區域改變為不溶性區域。此外，可以根據光刻工藝的需要使用正負光刻膠。TOKYO ELECTRON ACT12是半導體加工中常用的一種圖案化層幾何形狀和特征的方法。這允許將預定義的圖像以可以準確可靠地復制的方式傳輸到半導體上。它也常用於過程診斷，例如在光刻過程中檢查圖案的對齊方式。ACT 12過程能夠精確控制模式保真度。使用這種技術可以創建復雜的圖像，特別是在與光學光刻相結合的情況下。該工藝還能夠制造非常薄的薄膜，抵抗各種類型的輻射、熱量和化學物質的暴露。此外，就減少揮發性有機化合物（VOC）排放而言，該工藝提供了一種環保的光致抗蝕劑系統。總之，TEL ACT12光刻系統為精確制作光刻圖案提供了可靠有效的方法。它耐用，耐輻射、耐熱和耐化學物質，確保在加工過程中模式保持機智，並且在揮發性有機汙染物排放方面提供了一種環保的選擇。