二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9112086 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12光刻設備是一種光刻系統，用於先進半導體器件制造的制圖過程。它提供了一種先進的光致抗蝕劑自旋塗層工藝，可以在先進的半導體芯片上精確地應用薄膜抗蝕劑以及高精度地暴露於圖案層。該裝置能夠同時旋轉四個網,旋轉速度為7,000 rpm,基板溫度高達300 °C。TEL ACT 12可以使用曝光波長範圍很廣的光致抗蝕劑，從紫外線到深紫外線，使用EBR模式一小時內可提供多達4500個晶圓數據集。TOKYO ELECTRON ACT12具有高分辨率的縮放映射機,可幫助匹配塗層中使用的抗蝕劑,並在整個晶片表面保持均勻的晶片厚度和較高的圖像質量。這種縮放映射功能可以通過高級旋轉塗層位置調節（SCPR）非常精確地控制抗蝕劑厚度。SCPR工具可提供高精度,預置晶片上的光刻膠位置,確保在旋轉塗層過程中薄膜厚度均勻。ACT 12光抗蝕劑資產還配備了先進的反應性離子蝕刻（RIE），可用於蝕刻晶圓上非常薄的薄膜層。RIE是一種基於等離子體的蝕刻工藝，在設計和控制先進半導體晶片表面特征方面具有較高的精度。可用於實現極薄的表面層，圖案小特征，精確控制二維或三維特征。RIE可用於生產長寬比為1：2或更高、線寬為0.35 um的epi兼容結構（設備）。該模型還具有內置軟件的高級註釋功能，能夠精確控制光刻膠操作的性能。它還允許對可用於微調設備性能的模式進行高級註釋。該系統還具有自動對齊器，有助於更快的模式和實時缺陷檢查。TEL/TOKYO ELECTRON ACT12光致抗蝕劑裝置的設計滿足了制造半導體器件先進制圖工藝的最高要求。憑借其特點，該機能夠提供高精度塗層和曝光工藝、高分辨率縮放映射、快速RIE蝕刻以及高級註釋功能。此高級工具有助於確保生產高性能、高可靠性的設備。