二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9112122 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是一種光阻設備，用於先進的半導體器件制造工藝。該系統利用高速、高分辨率的無掩碼對準器，提供光刻膠、抗反射層和其他半導體器件制造用材料的精確圖案。TEL ACT 12的核心是其高速、高分辨率的無掩模對齊器。該對準器采用集成空間光調制器（SLM）與物鏡相結合，以0.8 μ m或更大的曝光分辨率精確繪制光刻材料圖樣。SLM包含數以千計的可單獨尋址的反射元件，可以調制激光束以快速準確地獲取圖像。光刻膠的精確圖案允許亞微米特征定義復雜的多層結構。TOKYO ELECTRON ACT12單元還配備了晶片裝載機和溫度控制，以確保光刻膠層的均勻曝光。晶片裝載機將晶片固定在電動傳送帶上，並將其精確定位在對準機中。溫度控制使用集成冷卻單元，以確保光刻膠保持在正確的溫度下進行曝光。ACT12還配備了自動缺陷檢測工具，可以檢測光刻層的缺陷，如針孔、劃痕和空隙。該工具的高級處理算法分析光刻膠層並識別缺陷,以便工程師能夠在繼續設備制造過程之前快速輕松地識別和解決這些缺陷。最後，TOKYO ELECTRON ACT 12資產能夠處理各種用於半導體器件制造的光敏材料。它還與各種曝光過程兼容,如直接寫入、步驟&重復和步驟&掃描。該模型可用於廣泛的設備應用，如MEMS設備，並可與電子束光刻等其他系統集成，以進一步提高設備的復雜性。