二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9142701 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是一種為關鍵裝置製造過程而設計的光敏設備。它是一種化學氣相沈積（CVD）工具，用於將薄層的光致抗蝕劑沈積在基片上。該過程首先將晶片加載到系統上，然後將晶片對準並傳輸到真空室中。該腔室裝有一個電子-Asist源（EAS），它產生一個電子束來激活一個氣體-相反應的光致抗蝕劑沈積。該單元還配備了測量納米粒子薄膜特性的微粒子圖像信號處理（Microparticle Image Signal Processing，簡稱MISP）機，以及電子回旋共振（Electron Cyclotron Resonance，簡稱ECR）裝置，有助於保持沈積過程的穩定氣氛。ECR進一步有助於減輕由於室內外部和內部的壓力差異而導致的室內等離子體不穩定性。氣體反應器隨後將適當的光致抗蝕劑和反應物氣體混合物引入工藝室。光致抗蝕劑暴露在電子束和氣相反應下，在所有晶片上形成均勻的薄膜層。使用旋轉監視器控制薄膜層的厚度，該監視器允許在任何給定旋轉角度下精確的脈沖持續時間。此工具提供卓越的安全標準、監控系統和一系列旨在提供高質量薄膜層的組件。廣泛應用於先進的光刻和蝕刻工藝，如納米壓印、膠帶轉移、半導體沈積和封裝，可與多種光刻材料配合使用。它具有單次處理多達600mm晶片的能力，非常適合大容量設備制造過程。TEL/TOKYO ELECTON TEL ACT 12是一種可靠且先進的CVD資產,能夠快速高效地生產高質量的薄膜層。它用途廣泛，能夠加工各種光致抗蝕劑材料，確保它可以在各種設備制造過程中使用。因此,對於希望以成本的一小部分生產具有可靠薄膜層的精密元件的設備制造商來說,它是必不可少的工具。