二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9152987 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是由半導體工藝技術的全球領先者TEL設計的光阻設備。該系統為制造商提供了一個強大的平臺,可以準確地繪制下一代設備所必需的最困難的3D結構。TEL ACT 12單元將先進的光刻技術和工藝與全面的光掩模和基板監測/控制相結合。該平臺配備了兩臺模式發電機，包括主、從模式發電機。主圖樣發生器配備了12英寸橢圓偏光計，可以對具有高保真圖像的抗蝕劑進行成像。主、從模式發生器連接到數據處理單元，對曝光進行綜合控制和監控。數據處理單元負責向模式發生器傳送所需的曝光參數，以及監控曝光參數。TOKYO ELECTRON ACT12具有產生具有卓越曝光均勻性和穩定性的圖像的能力。這個平臺可以處理厚度低至10nm的光刻膠，使其適合先進的裝置製造，例如FinFET。機器的架構還配備了自動對焦和水平（AFAL）以及微調對焦能力，確保了最佳圖像對比度。該平臺支持非化學放大（NCA）抗蝕劑和標準濕抗蝕劑工藝，從而實現高分辨率和精確度。它還允許單層或多層曝光，以及在需要特殊抗蝕劑特性的應用中使用自旋元件（SOC）材料的能力。TEL/TOKYO ELECTRON ACT12具有高度直觀的用戶界面，簡化了工具的操作，減少了必要的設置時間。自動基板溫度控制和曝光監控等功能為用戶提供了曝光參數符合規範的保證。此外，該資產還配備了故障檢測模型，用於捕獲和存儲與基材、掩模和接觸參數有關的數據，這些數據可能會導致無法接受的模式。TEL ACT12為制造商提供了一個可靠的光刻平臺，以最精確的方式生產出要求最苛刻的微觀結構。強大的模式發生器、自動化系統和過程監控相結合,保證了將膠片曝光至10 nm厚的最佳性能。這種設備是先進半導體制造的絕佳工具，因為它具有很高的精度和控制水平。