二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9163162 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12光致抗蝕劑設備是為基板加工而開發的半自動系統。它被用於LED器件制造過程，如掩模圖案、接觸孔形成、蝕刻後清潔等。主要用於半導體器件制造、液晶面板制造、微膜制造、醫療器件制造、光學元件制造等應用。TEL ACT 12單元設計用於在玻璃、塑料、金屬等基板上提供高度均勻的光敏塗層。它配備了具有精確塗層技術和多行工藝精度的高速工藝頭。該機還提供濕法加工、預烤和曝光後烘烤裝置的優異性能。該工具具有極靈活的實時過程參數調整系統，具有高精度溫度和大氣控制。將基材加熱至指定溫度，以便在晶片上進行精確的抗蝕塗層。真空卡盤用於保持晶片與塗層光學器件齊平。測量塗層的變化，使塗層膜保持均勻。塗層流體隨後從紡紗塗料中施加，並由高速分流輪幹燥至均勻的薄膜厚度。該資產可以對各種晶圓直徑和厚度最大為80mm的光刻膠進行高精度和均勻性的應用。曝光後烘烤過程遵循光掩蔽過程，以促進抗蝕劑薄膜與晶片的良好粘合，並最大限度地減少顯影和蝕刻過程中的抗蝕性失真。光刻膠經過光學設計，可以在低背景曝光劑量下為光刻工藝提供更高的靈敏度。晶圓通過帶有TOKYO ELECTRON ACT12模型的照片蒙版曝光，以曝光所需的特征。對於短曝光時間和高分辨率模式,這種情況發生在微秒的時間範圍內。然後在顯影劑中開發光致抗蝕劑，以暴露晶片不相容的部分，然後進行蝕刻。然後由一個分拆輪拆卸已開發的零件。然後通常使用等離子體、濕化學或激光去除方法對抗蝕劑進行剝離,以實現精確的圖樣化。TEL ACT12光刻設備提供了出色的光刻和處理均勻性，從而提高了制造LED器件的產量。該系統還提供了晶圓陣列制作過程中的靈活性和精確控制，使其成為制造各種設備的理想解決方案。