二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9237246 待售
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TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是一種光致抗蝕劑設備，利用成像和圖樣技術來創建納米級結構。該系統利用射束光學器件，能夠將寬度約0.1微米的聚焦光束投射到半導體晶圓上。這種光是用來蝕刻圖樣到光刻材料，這將形成結構在納米級。TEL ACT 12提供了短焦距和高光數值孔徑的組合。該裝置還采用了一種正在申請專利的激光成像工藝，用於納米級制圖。這一過程使用了高度聚焦且發散極低的激光束，從而允許在納米尺度上實現異常分辨率。該機還提供了一種先進的控制工具和用於模式優化的高級編輯工具，大大提高了半導體器件的生產。該平臺以高精度提供模式優化，允許按照芯片的確切規格構建納米級結構。TOKYO ELECTRON ACT12還具有高度先進的基板對準資產，為光刻膠結構的受控放置提供了高精度。這樣可以精確地將結構和元件放置在晶片上，也可以減少納米級結構對準或像差的誤差。該型號還配備了先進的成像設備。TEL/TOKYO ELECTRON ACT12中使用的光學系統能夠以15納米的分辨率投射圖像，從而能夠監測納米級結構的制造過程。最後,TEL ACT12提供了一個高度可靠和可重復的工作流過程。該單元由高度可靠的Terapro引擎提供動力，該引擎能夠控制整個工作流進程。Terapro引擎為每個成像步驟提供了準確可靠的事件序列,從而確保了一致和可靠的成像過程,從而減少了生產過程中的錯誤。
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