二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9247862 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是一款由TEL（TOKYO ELECTRON）開發的光阻設備。它旨在實現半導體晶圓、基板和其他表面上電路、圖樣和其他元素的可重復、可靠和精確的制造。該系統使用光刻技術將圖樣傳遞到半導體晶圓或基板上，通常用於微電子電路、集成電路（IC）和其他設備的處理。TEL ACT 12光致抗蝕劑單元包括三個主要組件：掩模對準組件、開發單元和曝光控制器。「掩模對齊器」組件包括「掩模支架」和「標線對齊器表」,該表將光掩模或標線保持並對齊到基板上。開發股用於抗蝕劑薄膜的曝光後處理，其中包括為接觸曝光和開發、剝離和/或烘烤準備基材。曝光控制器控制並監控曝光過程。Mask Aligner組件使用CCD（電荷耦合設備）相機,以確保在光掩碼或標線上精確對準和定位圖樣。它配備了環境傳感器和實時位置反饋，以確保準確的晶圓級配準。發展股由濕加工站、幹加工站、烘焙站組成。濕式站設有熱敏傳感器，確保溫度控制準確，並確保抗蝕膜研制正確。幹站使用真空卡盤來固定基板並控制暴露參數。烘焙站采用加熱器和溫度控制，確保抗蝕膜均勻烘烤。曝光控制器負責控制和監控曝光過程。曝光時間、強度、波長等曝光參數可由曝光控制器精確控制。它還為端到端過程控制和優化提供實時反饋。用戶還可以保存配方以備將來使用,從而允許操作員多次運行相同的曝光過程,而運行之間只需稍作更改。TOKYO ELECTRON ACT12光刻機為半導體晶片和基板提供了一種可靠、可重復、精確的圖樣化方法。該工具可實現高密度模式和精確的接觸配準,從而提高電路性能。該資產還可用於工藝優化和提高產量，提高成本效率和整合光刻工藝。