二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9281479 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是一種用於半導體基板加工的光阻設備。它能夠執行各種各樣的過程，包括濺射、離子註入、晶圓清潔、蝕刻等等。系統使用光活化的化學反應來塑造晶圓的表面。它旨在生產具有高密度特性的高精度薄膜設備。TEL ACT 12單元結合了光刻和等離子體蝕刻的優點。光刻技術是一種通過將材料暴露在輻射源上來繪制材料表面圖樣的技術。輻射對暴露區域造成化學變化，允許制造精細圖案。等離子體蝕刻是利用等離子體環境蝕刻目標材料表面的過程。這兩個過程的結合使得TOKYO ELECTRON ACT12能夠以高精度和精確度創造出錯綜復雜的納米尺度特征。ACT 12的光致抗蝕層被應用到晶圓的表面，並暴露於包含所需圖案的掩模。一旦卸下掩模，就會使用單獨的光源（通常是UV或E-beam）直接成像圖樣。然後使用一種特殊的塗層來保護光致抗蝕層，並允許控制晶片的蝕刻。接下來，將機器加熱至高溫，以激活暴露的光致抗蝕劑層的化學反應。圖案化反應產生了一層留在晶片上的光刻膠薄膜。剩下的光致抗蝕劑可以用適當的溶劑除去。最後,該工具可用於前面提到的任何過程,如濺射或離子植入,以創建所需的模式或設備。整個過程由TOKYO ELECTRON ACT 12提供的軟件資產控制，保證整個過程的質量控制。總之，TEL ACT12是一種先進的光致抗蝕劑模型，可以創建高度精確和復雜的納米尺度特征。它結合了光刻和等離子體蝕刻技術，能夠生產用於一系列應用的敏感設備。系統提供的軟件設備允許對過程進行完全控制，並確保整個過程的質量控制。