二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9290661 待售
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單擊可縮放
ID: 9290661
晶圓大小: 12"
優質的: 2002
Coater / (2) Developer system, 12"
Track 1:
Single block
ADH
Track 2:
Resist reduction: RRC
Developer nozzle: H Nozzle
RDS Resist pump: 10 ml
Oven:
(3) CPL
(7) LHP
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
2002 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是一種由TEL開發並由世界各地的各種分銷商銷售的光致抗蝕劑設備，是一種成本效益高但先進的蝕刻系統，主要設計用於半導體加工。該裝置通過控制光刻膠的沈積，能夠精確地在基板上制作復雜的圖樣。光致抗蝕劑是一種光敏材料，應用於半導體元件和其他類似材料，通過蝕刻或沈積額外的層來構造它們。TEL ACT 12機器設計為用戶友好,並提供廣泛的工藝功能,以適應各種工藝,如接觸光刻、旋轉塗層、掩模對準和後處理步驟。該工具包括幾個功能強大的硬件功能,以確保準確的過程控制。其中包括光刻膠供應資產、晶圓處理模型、圖樣發生器、激光對準和自動對焦機構。整體設備特點是工作區域大，行駛精度高，精度高。光刻膠供應系統是單元的心臟，並且允許在基板上一個一致和均勻的光刻膠塗層。它還能夠根據用戶的需求來調整光刻膠層的厚度。晶圓處理機提供了基板的精確移動和定位，而圖樣生成器使用戶能夠定義要蝕刻的圖樣。激光對準特性保證了圖案的精確放置，自動聚焦機制確保整個晶片暴露在相同水平的紫外線照射下。此外，TOKYO ELECTRON ACT12工具包括一個直觀的軟件控制程序，允許對過程序列進行簡單的管理和編程。這使資產成為自動化制造操作的理想選擇。軟件具有內置的流程參數庫,可根據流程需求進行自定義。它還包括安全功能,可提醒用戶註意流程中的任何錯誤或問題。總體而言,TEL ACT12模型對於任何需要具有先進工藝能力和易用性的經濟高效光刻設備的人來說都是絕佳的選擇。系統強大的硬件功能確保了過程控制的一致性和準確性,而其直觀的軟件控制程序可實現平穩的操作和維護。
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