二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9351398 待售
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ID: 9351398
Coater system
(8) RRC Pumps
(2) Pump I/O board
Load port board
Load port CONN board
Load port DC / DC CONV board
Controller: Type 3
Spin motor: PANASONIC Motor
AC Power
Chemical box
(2) T & H ME2 Temperature controllers.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是一種利用高能電子束曝光光敏膜的光敏設備。然後使用光刻膠制造各種納米精度的電子器件和器件。該系統利用直寫電子束光刻（DWEL）單元的特性來曝光光刻膜。該機器使用電子槍，該電子槍使用發射電子的特殊燈絲構成。產生的電子通過高壓電場通過噴槍加速，產生高能電子束撞擊光敏膜。電子束的能量使用能量分析儀監控，該分析儀也可以控制電子束。系統能量範圍為10至600 KeV，光斑大小為50nm至0.5 μ m。電子束曝光是跟隨一個光動曝光，它包括控制束電壓和電流，它的光斑大小，以及曝光的持續時間。此外，該工具能夠通過控制電子束的電流密度和位置來精確控制暴露劑量，從而使圖樣的幾何形狀和特征得到準確和均勻的暴露。光致抗蝕劑膜采用兩步沈積工藝，采用標準的光致抗蝕劑自旋塗覆在膜上，然後選擇性地暴露於電子束中。完成此操作後,將開發暴露區域,並將其用於制作電子元件的圖案。此外，光致抗蝕劑資產的性質允許更高的空間分辨率，保留制造的電子元件的復雜細節。該模型適合於構造很小的電子元件，得益於電子束的高能量和較小的光斑尺寸，使得制造過程中具有更高的分辨率和精度。此外，該設備有一個預編程模板，用於記錄和存儲以前建造的電子設備的模式，從而便於檢索和制造設備。因此，該系統適用於量子點制造和納米結構等應用。單位的成本也是合理的，使其成為那些希望生產小型電子元件的人的誘人選擇。
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