二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9359297 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12是一種為高精度光掩模生產而設計的光阻設備，具有高通量和高度精確的臨界層圖樣。它是一種基於高保證、可編程傳輸模式光刻（TML）工藝的自動光刻系統。TEL ACT 12利用四柱掃描單元進行晶圓級的X-Y運動，並利用高精度的線軸和垂直軸級在Z方向進行基板定位。這種軸的組合使機器能夠用於從預烤到曝光後烘烤的光刻過程。此外，TOKYO ELECTRON ACT12實現了幾種先進的技術來實現穩定的圖樣和高分辨率打印。一種「柱束耦合」工具確保產生的激光由於獨立的驅動軸控制而均勻分布。此屬性有助於在整個視場中保持統一的成像。此外，該資產還包括四個獨立的光束對準機制，可最大限度地減少由光路波動和晶圓坐標不匹配引起的像差。安裝了兩個6KS掃描儀以同時進行晶片掃描。這樣可以將長寬比降低到最大10,從而實現高面積吞吐量。此外,該模型還利用Z方向的高精度垂直掃描級來實現晶圓平面的精細聚焦調整,從而有助於保持晶圓上曝光劑量的均勻性。它還實現了一個高精度的編碼器伺服驅動機構，以盡量減少成像誤差，這意味著實現了高度精確和可靠的模式。此外，TEL/TOKYO ELECTRON ACT12由於TEL獨特的「全方位相位（PARaDs）」技術而實現了極好的晶圓到晶圓的重復性。多虧了這項專利技術，即使晶片在平面度上各略有不同，同樣的成像條件也可以全部應用。總之，ACT 12是一種高端光刻光刻設備，利用幾項先進技術，提供高通量、高精度的圖樣，以及優異的晶片到晶片的可重復性。結合高度精確的基板運動階段和獨立的光束對準機制，能夠在光掩模生產過程中產生優異的效果。