二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9364744 待售
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ID: 9364744
晶圓大小: 12"
優質的: 2004
(4) Coater / (4) Developer system, 12"
Wafer type: Notch
Right to left
Loading configuration: (3) Uni cassettes
Cassette type: FOUP
Inline
CSB
PRB1
PRB2
IFB
AC Power box
(2) Chemical boxes
Main controller
25-Slots
Coater unit (2-1, 2-2 Modules):
(4) Dispense nozzles with temperature controller lines
RDS Pump
PR Suck-back valve: (8) Auto suck-back valves
Manual drain
Programmable side rinse: CCSS Thinner supply
BCT Unit (2-3,2-4 Modules):
(2) Dispense nozzles with temperature controller line
RDS Pump
PR Suck-back valve: (4) Auto suck-back valves
Rinse system: 3-Liters (2) buffer tank systems
Manual drain
Programmable side rinse:
Thinner supply: CCSS
Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4 Modules):
NLD Nozzle / Unit
(2) Stream nozzles for DI rinse
2-Points for back side rinse
Developer system: 3-Liter (2) buffer tank systems
Developer supply: CCSS
Developer temperature controller
Direct drain
ASML I/F Wafer stage
Temperature Control Unit (TCU)
(2) Chemical cabinets
T and H Controller missing
Power supply: AC 208 V, 3 Phase
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12光刻設備是半導體器件制造的領先系統之一。這個系統是為了開發和生產用於製造半導體器件如CPU、GPU、記憶體和其他元件的薄膜而設計的。它提供了高級設備集成所需的精確薄膜處理,並具有微調薄膜形成的高性能功能。TEL ACT 12單元配備了用於光刻圖樣的強大電子束和用於薄膜精確定位和圖樣的高精度曝光級。利用獨特的雙光束制圖機（DBMS），該工具能夠提供高水平的均勻性和精確度。DBMS能夠同時檢測和分析整個樣品區域的電子束劑量分布，提供薄膜圖樣的高分辨率視圖。TOKYO ELECTRON ACT12還具有用於優化模式生成的高精度階段和多重模式算法,以及用於監測和診斷暴露狀況的強大軟件。該資產支持各種光敏材料，並能夠處理復雜結構的不同模式。該模型還支持一系列其他選項,包括熱控制、多軸對齊和元件保護。ACT12光刻設備具有精確度、性能和先進的特點，是高端半導體器件制造的理想解決方案。該系統提供了最高水平的性能和準確性，使設備制造商能夠生產市場上最好、最先進的半導體器件。它還提供極低的擁有成本,使其成為任何生產環境的理想選擇。
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