二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 SOG #9105809 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 SOG（Sub-Micron Optical grating）是一種最先進的光刻設備，專為制造亞微米特性而設計。利用先進的光柵技術，將高達20nm的高分辨率圖樣傳輸到半導體晶片表面。然後使用光致抗蝕劑來創建亞微米結構、線和間隙，用於設備制造。TEL ACT 8 SOG具有產生極高解析度特徵的能力，能夠將深度為20nm的圖樣精確地再現到半導體晶圓上。這樣就能夠以極高的精度生產出極精確的元件。這是成功生產高密度存儲器芯片和NAND存儲器等半導體器件的關鍵，這些器件需要高分辨率光刻才能產生超短分量寬度。該系統采用長壽命、高功率的激光源提供盡可能高分辨率的照明，並結合高動態範圍CCD相機和閉環對準單元，使光刻膠精確對準晶片。通過這種設置,可以以最高的精度和清晰度生成圖樣。光刻機具有先進的多層補償模塊，利用光學衍射模型精確調整和校正光柵設計，使其能夠產生極淺角度和形狀的圖案。可以調整模式，以便在優化模式以滿足設備制造過程的特定需求時進行校正。TEL ACT 8工具還具有防反射塗層模塊，有助於減少反射光的幹擾，允許更高的對比度和更銳利的側壁，以生產更好的分辨率裝置。資產還利用先進的無掩碼操作來控制光刻膠的圖樣。此功能使它無需任何掩碼即可產生模式,從而大大減少了過程時間和復雜性。總體而言，TOKYO ELECTRON ACT 8 SOG是一種先進的光刻膠模型，能夠以極高的精度，甚至極淺的角度和形狀結構生產高分辨率器件。這種設備可以大大減少工藝時間和成本，有助於大大提高半導體元件的質量。