二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9127707 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8光刻設備是微電子工業中那些需要精確納米級光刻制造的設備的強大工具。該系統設計用於在各種基板上蝕刻薄電子元件。該單元可以精確蝕刻尺寸低至400納米的特征，非常小。通過使用光掩模保護晶片免受電阻光的影響，機器可以精確地定義基板上的元素。TEL ACT 8光刻工具主要包含三個組件：晶圓處理程序、統一數字微鏡設備（DMD）和專有的二維（2D）成像軟件。晶圓處理程序是資產的主要組成部分，負責安全地處理晶圓基板。它配有熱卡盤以保持恒定溫度，以確保整個基板均勻蝕刻。此外,晶圓處理程序還具有具有自動掃描和z高度掃描模型的特殊光學元件。統一DMD是用於編程掩碼的高級組件。它包括兩個獨立的組件-透明光學組件和二維成像組件。第一個元件在納米精度下提供極快的分辨率，而第二個元件在曝光時保證相位聚焦穩定性。這一機制確保了基材的均勻、精確的蝕刻。TOKYO ELECTRON ACT 8光抗蝕劑設備的最後部分是專有的2D成像軟件。此軟件可使用microlITHO腳本實現精確的成像-這是一個功能強大的工具,用於為設備設計和改進掩碼。它還具有自動校正功能，可以在成像和蝕刻過程中調整圖像，以保證完美的設計。與以前的系統相比,TEL ACT 8光阻系統具有許多優勢。憑借其納米級分辨率和自動化成像能力，該單元非常適合納米級光刻和生產超薄元件和基板。這使得機器成為各種材料上生產微電子的強大工具。而且，其專有的二維（2D）軟件允許精確成像和microlITHO腳本，以保證完美的設計。